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三星宣布3nm制程芯片成功流片:基于GAA工艺,比台积电更强

目前从事先进制程的晶圆厂商并不多了,基本上就是台积电、三星以及英特尔,而英特尔显然还没有参与到晶圆代工行列中来,大家平常看到最多的便是三星和台积电,目前这两家公司都已经完成了5nm制程的大规模量产,下一步就是4nm乃至3nm制造工艺,而如今三星已经表示成功流片基于3nm制程工艺的芯片,将会在明年或者后年正式量产。

三星今天表示经过验证和改良,基于3nm制程工艺的芯片已经在近期成功流片,接下来就是为3nm晶圆的量产做准备了,而与老对手台积电相比,三星的3nm制程似乎晚了一点,不过两者的工艺有所不同,台积电采用的是成熟的FinFET工艺,而三星则是采用下一代的GAA工艺,三星也表示与台积电的3nm制程相比,三星的GAA工艺能够取得更加出色的电气性能,从而让芯片性能更加出众。

三星表示基于GAA工艺的3nm制程相比较目前的5nm工艺,晶圆的面积效率提升了35%,性能也提升了30%,而功耗则降低了50%,考虑到高性能计算的需求,预计仍然是移动芯片将会采用全新的3nm制程工艺。不过从三星近几次的成品来看,尽管三星制程工艺的纸面性能相当不错,但是芯片的体验却不尽如人意,比如说高通骁龙888处理器以及英伟达的GPU,都遇到了发烧以及功耗暴增的问题,距离3nm制程正式量产还有很长的距离,不知道三星能否对3nm制程进行充分的优化。

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  • 编辑:王虹
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